光氧催化設備的清洗周期
光氧催化設備的清洗周期
光氧催化設備的清洗周期一般約為3個月。清洗周期越短,氣味處理的功率越高。假如長期不清洗,將會有許多安全隱患。待清洗的洗滌劑可用一般熱水和苛性鈉完結(jié)。水溫控制在50°,由于水溫文苛性鈉處理才能是水溫,能夠即將清洗的設備放在清洗槽中。
光氧催化清洗的***要過程是堵截電源,翻開檢查門,取出要清洗的設備,然后將其浸入苛性鈉中半小時,然后用水完全沖刷并用天然辦法干燥,以保證設備干燥。能夠?qū)⑵浞呕豒V光解設備中,然后完結(jié)簡略的清洗作業(yè)。裝置光氧催化設備后,制造商將為企業(yè)進行清洗和保護訓練,由于清洗過程并不困難,因而一般人都能夠操作,這是光氧催化設備中廣泛運用的因素之一。