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分析等離子除臭設(shè)備的技術(shù)特性

來源:未知 ?? 作者: admin; 發(fā)布日期:2020-01-02 15:17

分析等離子除臭設(shè)備的技術(shù)***性
 
1。本產(chǎn)品采用***殊的高能高臭氧紫外光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體,如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲基二硫醚、二硫醚碳和苯乙烯的分子鏈結(jié)構(gòu),硫化氫、VOC、苯、甲苯、二甲苯組成分子鏈有機(jī)或無機(jī)***分子氣味化合物在高能紫外光照射下降解為低分子化合物,如CO2、H2O等。
2、 利用高能高臭氧紫外光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧。由于自由氧攜帶的正負(fù)電子不平衡,需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。
UV+O2 O2 -O-O*(活性氧)OO2~O3(臭氧),臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用,對(duì)惡臭氣體和其他刺激性氣味有直接的去除作用。
 3,在廢氣設(shè)備將臭氣體輸入凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備采用高能紫外紫外光和臭氧進(jìn)行惡臭氣體的協(xié)同分解和氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)降解為低分子化合物、水和碳。二氧化物,然后通過排氣管排出室內(nèi)。
4、 利用高能紫外光束打破臭氣中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸,然后進(jìn)行臭氧氧化反應(yīng),達(dá)到除臭殺菌的目的