論述了uv光解除臭設(shè)備的工作原理

 

 

 

uv光解除臭設(shè)備具有較強(qiáng)的適應(yīng)性、低運(yùn)營(yíng)成本和設(shè)備占的面積小,應(yīng)該應(yīng)用于煉油廠,橡膠工廠,化工廠、制藥、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站,餐廚垃圾處理廠,飼料工廠,工廠染色工廠、涂料和其它污染惡臭氣體的除臭凈化。高能、高臭氧光波用于分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧。由于自由氧所攜帶的正電子和負(fù)電子的不平衡，它需要與氧分子結(jié)合才能產(chǎn)生臭氧。眾所周知，臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用。

 

 

 

廢氣凈化設(shè)備光催化氧化的反應(yīng)原理是什么?

uv光解除臭設(shè)備是在外界可見光催化作用下，以半導(dǎo)體和空氣為催化劑，光為能源，有機(jī)降解成CO2和H2O等無(wú)毒無(wú)害的組分。我公司采用人造紫外線光波作為能源，經(jīng)我公司***殊處理后的活性zui強(qiáng)、反應(yīng)效率高的納米TiO2催化劑zui，對(duì)廢氣惡臭氣體進(jìn)行處理后能達(dá)到較***的凈化效果。

uv光解除臭設(shè)備在半導(dǎo)體光催化氧化反應(yīng)中，紫外光照射在納米TiO2催化劑上，納米TiO2催化劑吸收光能產(chǎn)生電子躍遷和空穴躍遷，進(jìn)一步結(jié)合產(chǎn)生電子-空穴對(duì)。

 

和廢氣表面吸附的水(H2O)和氧氣(O2)反應(yīng)生成氧化非?；畈ǖ牧u基自由基和超氧離子自由基可以減少各種有機(jī)廢氣等碳?xì)浠衔?、醛類、酚類、醇、硫醇、苯、氨、氮、硫和其它VOC有機(jī)和無(wú)機(jī)物質(zhì)的作用下光催化氧化,減少二氧化碳(CO2),水(H2O)和其他無(wú)毒無(wú)害的物質(zhì),凈化后的廢氣分子被激活退化,氣味消失的同時(shí),也有廢氣凈化的效果,同時(shí)細(xì)菌和病毒的繁殖管可以有效地去除,因?yàn)闆]有添加劑在光催化氧化過程中,沒有二次污染。在運(yùn)營(yíng)成本方面，只使用電能，不需要頻繁更換配件。因此，它對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)是相當(dāng)節(jié)能環(huán)保的。